更新時(shí)間:2024-12-06
Renishaw雷尼紹光柵傳感器 RCDMRCDM是一種直接在盤(pán)面上刻劃刻度的一體式玻璃碼盤(pán),具有單個(gè)參考零位位置和光學(xué)準(zhǔn)直調(diào)整帶。光學(xué)準(zhǔn)直調(diào)整帶可用于減少準(zhǔn)直誤差并提高安裝精度。提供20 µm或40 µm兩種柵距的增量式刻線類型,有多種尺寸可選(20 µm:直徑30 mm至108 mm,40 µm:直徑17 mm至108 mm)。
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Renishaw雷尼紹光柵傳感器 RCDM
RCDM是一種直接在盤(pán)面上刻劃刻度的一體式玻璃碼盤(pán),具有單個(gè)參考零位位置和光學(xué)準(zhǔn)直調(diào)整帶。光學(xué)準(zhǔn)直調(diào)整帶可用于減少準(zhǔn)直誤差并提高安裝精度。
提供20 µm或40 µm兩種柵距的增量式刻線類型,有多種尺寸可選(20 µm:直徑30 mm至108 mm,40 µm:直徑17 mm至108 mm)。
Renishaw雷尼紹光柵傳感器 RCDM
柵尺名稱 | 柵距 | 20 oC時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 碼盤(pán)外徑 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RCDM | 20 µm/40 µm | ~8 µm/m/°C | 17 mm至108 mm | ATOM、ATOM DX |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RTLF | 20 µm:±5 μm/m 40 µm(高精度):±5 µm/m | 20 µm/40 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | 最長(zhǎng)10 m(可根據(jù)要求提供10 m以上長(zhǎng)度) | ATOM、ATOM DX |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RTLC配用可選FASTRACK | 20 µm:±5 μm/m 40 µm(高精度):±5 µm/m | 20 µm/40 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | 最長(zhǎng)10 m(可根據(jù)要求提供10 m以上長(zhǎng)度) | VIONiC、QUANTiC、TONiC、TONiC UHV、TONiC FS |
配有可選FASTRACK的RTLA | 30 µm:±5 µm/m 50 µm:±10 µm/m | 30 µm/50 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | RESOLUTE:最長(zhǎng)21 m EVOLUTE:最長(zhǎng)10.02 m | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE FS、EVOLUTE |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RKLC-S、RKLR-S | 20 µm:±5 μm/m 40 µm(高精度):±5 µm/m 40 µm:±15 μm/m | 20 µm/40 µm | 使用端壓片將柵尺端部固定到基體后,柵尺的伸縮將與基體材料保持一致 | 最長(zhǎng)20 m(可根據(jù)要求提供20 m以上長(zhǎng)度) | VIONiC、TONiC、TONiC UHV、QUANTiC |
RKLF-S | 20 µm:±5 μm/m 40 µm(高精度):±5 µm/m 40 µm:±15 μm/m | 20 µm/40 µm | 使用端壓片將柵尺端部固定到基體后,柵尺的伸縮將與基體材料保持一致 | 最長(zhǎng)10 m(可根據(jù)要求提供10 m以上長(zhǎng)度) | ATOM、ATOM DX |
RKLA-S | ±5 μm/m | 30 µm | 使用端壓片將柵尺端部固定到基體后,柵尺的伸縮將與基體材料保持一致 | 最長(zhǎng)21 m | RESOLUTE |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RELM20/RELE20 | 1 m內(nèi)為±1 µm,1 m以上為±1 µm/m | 20 µm | 0.75 ±0.35 µm/m/°C | 最長(zhǎng)1.5 m | VIONiC、TONiC、TONiC UHV、TONiC FS |
RELA30 | 1 m內(nèi)為±1 µm,1 m以上為±1 µm/m | 30 µm | 0.75 ±0.35 µm/m/°C | 最長(zhǎng)1.5 m | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE FS |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RSLM20/RSLE20/RSLC20 | 1 m內(nèi)為±1.5 µm,2 m內(nèi)為±2.25 µm,3 m內(nèi)為±3 µm,5 m內(nèi)為±4 µm | 20 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | 最長(zhǎng)5 m | VIONiC、TONiC、TONiC UHV、TONiC FS |
RSLA30 | 1 m內(nèi)為±1.5 µm,2 m內(nèi)為±2.25 µm,3 m內(nèi)為±3 µm,5 m內(nèi)為±4 µm | 30 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | 最長(zhǎng)5 m | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE FS |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RCLC | ±3 µm | 20 µm/40 µm | ~8 µm/m/°C | 最長(zhǎng)130 mm | ATOM、ATOM DX |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RKLC-S | 20 µm:±5 μm/m 40 µm:±15 μm/m | 20 µm/40 µm | 10.1 ±0.2 μm/m/°C | 最長(zhǎng)20 m(可根據(jù)要求提供20 m以上長(zhǎng)度) | VIONiC、TONiC、QUANTiC |
RKLF-S | ±15 μm/m | 40 µm | 10.1 ±0.2 μm/m/°C | 最長(zhǎng)10 m(可根據(jù)要求提供10 m以上長(zhǎng)度) | ATOM、ATOM DX |
RKLA-S | ±5 μm/m | 30 µm | 10.1 ±0.2 μm/m/°C | 最長(zhǎng)21 m | RESOLUTE |
柵尺名稱 | 刻劃精度(取決于圓環(huán)直徑) | 柵距 | 20 oC時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 圓環(huán)直徑 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RESM | ±3.97至±0.38角秒 | 20 µm/40 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 52 mm至550 mm | VIONiC、TONiC、TONiC UHV、TONiC FS、QUANTiC |
RESA30 | ±3.97至±0.38角秒 | 30 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 52 mm至550 mm | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE ETR、RESOLUTE FS |
柵尺名稱 | 安裝精度(取決于圓環(huán)直徑) | 柵距 | 20 oC時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 圓環(huán)直徑 | 讀數(shù)頭兼容性 |
REXM20/REXT20 | (直徑 ≥ 100 mm)±1角秒 | 20 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 52 mm至417 mm | VIONiC、TONiC、TONiC UHV |
REXA30 | (直徑 ≥ 100 mm)±1角秒 | 30 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 52 mm至417 mm | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE ETR、RESOLUTE FS |
柵尺名稱 | 柵距 | 20 oC時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 碼盤(pán)外徑 | 讀數(shù)頭兼容性 |
CSF40 | 40 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 固定選項(xiàng): 螺栓:38.4 mm至120 mm 夾具:31 mm至120 mm 如需其他尺寸,請(qǐng)聯(lián)系雷尼紹 | ATOM DX |